ไม่ง้อ ASML จีนสร้างเครื่องมือตัวเอง ผลิตชิป 5 นาโนเมตร

สำนักข่าวรอยเตอร์รายงานว่า จีนสามารถใช้ “เครื่องมือที่พัฒนาขึ้นเองในประเทศ” ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงเองได้แล้ว แม้สหรัฐพยายามกีดกันจีนจากเทคโนโลยีขั้นสูงก็ตาม ตามคำกล่าวของประธานบริษัท SiCarrier ผู้ผลิตอุปกรณ์ผลิตชิป 

ตู้ ลี่จวิน ประธานบริษัท SiCarrier กล่าวว่า แม้จีนเผชิญมาตรการจำกัดการเข้าถึงระบบลิโธกราฟีของ ASML สำหรับการผลิตชิป แต่สามารถใช้เครื่องมือที่ผลิตภายในประเทศทดแทนได้ เพื่อช่วยให้สามารถผลิต “ชิประดับ 5 นาโนเมตร”

“อาจมีแนวทางที่เราสามารถใช้เทคโนโลยีที่ไม่ใช่ออปติคัลในกระบวนการผลิต เพื่อทดแทนลิโธกราฟี” ตู้ ลี่จวินกล่าวระหว่างงานสัมมนาอุตสาหกรรม Semicon China ประจำปี 

สำหรับในงานสัมมนา บริษัท SiCarrier ของตู้ ได้นำเสนออุปกรณ์สำหรับเทคนิคการกัดเซาะ เพื่อวาดลวดลายในผิวเวเฟอร์ที่ใช้ผลิตชิป และเทคโนโลยีเสริมสร้างชั้นบางของแผ่นเวเฟอร์ รวมถึงเครื่องมือวัดทางแสง โดยที่บูธของบริษัท เป็นจุดหนึ่งที่มีผู้เข้าชมหนาแน่นที่สุดของ

ตู้ ลี่จวินระบุว่า เทคนิค Multi-patterning (การสร้างลวดลายหลายชั้นบนเวเฟอร์ชิป) อาจทำให้การผลิตชิปลดประสิทธิภาพลง เพราะต้องเพิ่มขั้นตอนการผลิตขึ้นประมาณ 20% เมื่อเปลี่ยนจากชิปขนาด 7 นาโนเมตร เป็น 5 นาโนเมตร 

ทั้งนี้ เครื่องมือผลิตชิปของ SiCarrier ได้ถูกใช้โดยโรงงานผลิตเซมิคอนดักเตอร์รายใหญ่ของจีนอย่าง Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) ตามที่ผู้จัดการของบริษัทคนหนึ่งกล่าว ซึ่งขอไม่เปิดเผยชื่อ

ไม่เพียงเท่านั้น SiCarrier ยังได้ร่วมมือกับยักษ์ใหญ่ทางด้านโทรคมนาคมอย่าง Huawei ด้วย

สำหรับ SiCarrier ก่อตั้งขึ้นในปี 2022 และมีบริษัทแม่ คือ SiCarrier Technology ที่ก่อตั้งในปี 2021 โดยบริษัทนี้เป็นหนึ่งใน 140 บริษัทเครื่องมือของจีนที่ถูกเพิ่มในบัญชีดำของสหรัฐในเดือนธันวาคมที่ผ่านมา

Multi-patterning เป็นเทคนิคผลิตชิปแทนการใช้ลิโธกราฟีแบบเดิมของ ASML ในการช่วยจีนผลิตชิปขนาด 5 นาโนเมตร โดย SiCarrier ได้รับสิทธิบัตรสำหรับเทคโนโลยี multi-patterning ในปลายปี 2023 จากหน่วยงานกำกับดูแลทรัพย์สินทางปัญญาของจีน

อ้างอิง: reuters